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技術(shù)文章

關(guān)于ICP-MS中的實(shí)驗(yàn)室純水
點(diǎn)擊次數(shù):1679 更新時(shí)間:2015-01-15

關(guān)于ICP-MS中的實(shí)驗(yàn)室純水

電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)是一項(xiàng)高度復(fù)雜的多元素分析技術(shù),它正越來(lái)越多地在制藥行業(yè)、食品與飲料行業(yè)以及環(huán)境監(jiān)測(cè)中用于痕量元素的檢測(cè)與定量分析。

污染物的影響

在基于ICP-MS技術(shù)的痕量分析過(guò)程中,主要在前期步驟使用純水。顯而易見(jiàn),任何存在于水中的污染物都可能對(duì)分析過(guò)程的所有其它步驟產(chǎn)生不利影響。因此,分析過(guò)程中使用的純水,例如用于樣品稀釋的純水等,都應(yīng)該幾乎不含離子,同時(shí)具有相對(duì)較低的TOC濃度。

實(shí)驗(yàn)室純水中污染物的影響:

總有機(jī)碳(TOC)化合物:

導(dǎo)致有機(jī)金屬化合物的產(chǎn)生,從而對(duì)痕量分析結(jié)果造成不利影響

污染設(shè)備組件

高離子濃度(電導(dǎo)率):

大大影響分析物的能譜分析結(jié)果

導(dǎo)致分析結(jié)果失真

顆粒物:

堵塞分析儀器(如霧化器等)部件

可結(jié)合金屬,從而影響分析結(jié)果

細(xì)菌:

堵塞系統(tǒng)組件

釋放離子

關(guān)鍵因素

特別是,低離子濃度在制備ICP質(zhì)譜分析樣品時(shí)能夠起到關(guān)鍵作用。由于ICP-MS是一項(xiàng)極為復(fù)雜的分析方法,因此所用純水必須具備*的質(zhì)量,例如電導(dǎo)率為0.055 μS/cmASTM I級(jí)超純水。此外,TOC水平必須保持在較低值(建議<10ppb)。

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